产品概述
品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 国产 |
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应用领域 | 化工,综合 |
FR-Scanner-AIO-Mic-XY200: 微米级横向定位精度自动化薄膜厚度测绘系统
FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200模块化厚度测绘系统集成了先进的光学、电子和机械模块,可兼用于对无图形和图形薄膜(例如微图形表面、粗糙表面)进行精确测量 )。
将晶圆放置在配备反射率标准件真空吸盘上(晶圆尺寸直径≤200mm), 由功能强大的光学模块执行测量,光斑尺寸可缩小至几微米。电动平台提供XY方向 200 毫米的行程,在速度、精度和可重复性方面具有的性能.
FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200提供了:
o 实时反射率光谱测量
o 薄膜厚度、光学参数、非均匀性测量、厚度测绘
o 使用集成的、USB 连接的高质量彩色相机进行成像
o 多種量測參數广泛统计数据
o 半自动图案对准功能用于测量周期性图形区域
o 软件功能,例如:"Click2Move “(萤幕点击定位量测点)、比例尺
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UV/VIS
200 – 850
UV/NIR-HR D UV/NIR VIS/NIR
190-1100 200 – 1700 380 –1020
CCD image sensor
NIR
900 – 1700
3648 | 3648 | 2048 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 | 3648 |
4nm – 60μm | 4nm – 70μm | 4nm – 80μm | 4nm – 150μm | 10nm – 90μm | 15nm–150μm | 100nm-150μm | 4um – 1mm |
4nm – 50μm | 4nm – 60μm | 4nm – 65μm | 4nm – 130μm | 10nm – 80μm | 15nm–130μm | 100nm–130μm | – |
4nm – 40μm | 4nm – 50μm | 4nm – 50μm | 4nm – 120μm | – | – | 100nm-100μm | – |
4nm – 25μm | 4nm – 30μm | 4nm – 30μm | 4nm – 50μm | 10nm – 50μm | 15nm – 60μm | 100nm – 60μm | – |
4nm – 4μm | 4nm – 4μm | 4nm – 5μm | 4nm – 6μm | – | – | – | – |
– | – | – | – | 10nm – 7μm | 15nm – 8μm | 100nm – 8μm | – |
50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm | – |
选项
材料在折射率存在一定差異時可同时测量 4 层 (依样本状况而異)
0.2% or 1nm 0.2% or 2nm 3nm or 0.3%
Deuterium & Halogen (internal), 2000h (MTBF) Halogen 12V/50W (internal)
配备 2MP/5MP 彩色图像传感器的显微镜柱,具有宽阔的观察区
优于0.5μm
±3μm
2 / 3 / 4 / 6 英寸(150 毫米 ) /8 英寸(200 毫米)或最大 200 毫米的任何形状(不包括参考/暗区模块) 集成在卡盘上
49 点测量/90 秒(8 寸晶圆)
FR-AutoFocus 100mm 长线性轴,用于自动对焦,具有两种操作模式:图像对焦(对比度)/ 反射强度 |
FR-FilterWheel 电动滤光轮模块带有可容纳 8个滤光片的插槽由计算机自动控制: 滤光片尺寸:直径0.5英寸,直径 1 英寸(孔径 23 毫米) |
FR-AutoTurret 自动转塔由计算机控制可容纳 4 个物镜:镜头切换速度约为 2.0-3.0 秒 |
Lenses 长工作距离 VIS/NIR 镜头: 5X, 10X, 20X, 40X, 50X 反射式 UV/NIR 镜头: 10X, 15X, 25X, 40X |
Pump 低噪音真空泵,2.5L/min,真空度-60kPa. |
Chucks a) 单直径晶圆卡盘(4 英寸、6 英寸、200 毫米) b) 带参考区域的光掩模卡盘(6 英寸) c) 包括参考区域和暗区,用于自动基准的多晶圆卡盘(100 毫米、150 毫米、200 毫米和不规则形状样本) |
Enclosure 外壳带有联锁装置,可在装载晶圆的门打开时激活快门 |
规格如有变更,恕不另行通知. 通过定制可以实现真正的 X-Y 扫描 ** 与校正过的光谱椭偏仪和x射线衍射仪的测量结果匹配,*超过15天平均值的标准偏差平均值,样品:硅晶片上1微米SiO2,*标准偏差100次厚度测量结果,样品:硅晶片上1微米SiO2, * 15天内每日平均值的2*标准差。样品:硅片上1微米SiO2. *** 还可根据要求提供适用于 450mm 及双面抛光硅晶圆的平台..
测量区域光斑(收集反射信号的区域)与物镜和孔径大小有关, 标准孔径尺寸为:500μm(方形)、250μm(方形)、100μm(方形).250μm为默认孔径值.可根据要求提供的其他孔径尺寸:150μm(方形)和 50μm(方形)
物鏡 光斑尺寸 | |||||||||
Magnification | 工作距离(mm) | 500 | μm孔径 | 250 | 孔径(默认) | 150 | μm 孔径 | 100 | μm孔径 |
5x | 45 | 100 μm | 50 μm | 30 μm | 20 μm | ||||
10x | 34 | 50 μm | 25 μm | 15 μm | 10 μm | ||||
20x | 31 | 25 μm | 14 μm | 8 μm | 5 μm | ||||
50x | 20 | 10 μm | 5 μm | 3 μm | 2 μm |
软件特性 |
~50公斤(Depends on the actual configuration)
> 800 种不同的材料
FR-Monitor v4.0 (免费更新) 完整详细信息请参见相关目录页面
二维厚度分布图 3D厚度分布图
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